【CPP114】訊：液態感光油墨應用工藝流程圖：


　　基板的表面處理－－涂布（絲印）－－預烘－－曝光－－顯影－－干燥－－檢查－－蝕刻－－褪膜－－檢查（備注：內層板）


　　基板的表面處理－－涂布（絲�。�－－預烘－－曝光－－顯影－－干燥－－檢查－－電鍍－－褪膜－－蝕刻－－檢查（備注：外層板）


　　一．液態光致抗蝕劑（Ｌｉｑｕｉｄ�。校瑁铮簦铮颍澹螅椋螅簦�


　　液態光致抗蝕劑（簡稱濕膜）是由感光性樹脂，配合感光劑、色料、填料及溶劑等制成，經光照射后產生光聚合反應而得到圖形，屬負性感光聚合型。與傳統抗蝕油墨及干膜相比具有如下特點：


　　ａ）不需要制絲網模版。采用底片接觸曝光成像（Ｃｏｎｔａｃｔ　Ｐｒｉｎｔｉｇ），可避免網印所帶來的滲透、污點、陰影、圖像失真等缺陷。解像度（Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ）大大提高，傳統油墨解像度為２００ｕｍ，濕膜可達４０ｕｍ。


　�。猓┯捎谑枪夤袒�反應結膜，其膜的密貼性、結合性、抗蝕能力（Ｅｔｃｈ　Ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ）及其抗電鍍能力比傳統油墨好。


　�。悖�濕膜涂布方式靈活、多樣，工藝操作性強，易于掌握。


　　ｄ）與干膜相比，液態濕膜與基板密貼性好，可填充銅箔表面輕微的凹坑、劃痕等缺陷。再則濕膜薄可達５～１０ｕｍ，只有干膜的１／３左右，而且濕膜上層沒有覆蓋膜（在干膜上層覆蓋有約為２５ｕｍ厚的聚酯蓋膜），故其圖形的解像度、清晰度高。如：在曝光時間為４Ｓ／７Ｋ時，干膜的解像度為７５ｕｍ，而濕膜可達到４０ｕｍ。從而保證了產品質量。


　�。澹┮郧笆褂酶赡こ３霈F的起翹、電鍍滲鍍、線路不整齊等問題。濕膜是液態膜，不起翹、滲鍍、線路整齊，涂覆工序到顯形工序允許擱置時間可達４８ｈｒ，解決了生產工序之間的關聯矛盾，提高了生產效率。


　�。妫�對于當今日益推廣的化學鍍鎳金工藝，一般干膜不耐鍍金液，而濕膜耐鍍金液。


　�。纾┯捎谑且簯B濕膜，可撓性強，尤其適用于撓性板（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ�。校颍椋睿簦澹洹。拢铮幔颍洌┲谱�。


　�。瑁�濕膜由于本身厚度減薄而物ｄ料成本降低，且與干膜相比，不需要載體聚酯蓋膜（Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ　Ｃｏｖｅｒ�。螅瑁澹澹簦┖推鸨Ｗo作用的聚乙烯隔膜（Ｐｏｌｙｅｔｔｙｌｅｎｅ�。樱澹穑幔颍幔簦铮颉。樱瑁澹澹簦�，而且沒有象干膜裁剪時那樣大的浪費，不需要處理后續廢棄薄膜因此，使用濕膜大約可以節約成本每平方米３０～５０％。


　　ｉ）濕膜屬單液油墨容易存貯保管，一般放置溫度為２０±２℃，相對濕度為５５±５％，陰涼處密封保存，貯存期（Ｓｔｏｒａｇｅ�。蹋椋妫澹�：４～６個月。


　�。辏┦褂梅秶鷱V，可用作ＭＬＢ內層線路圖形制作及孔化板耐電鍍圖形制作，也可與堵孔工藝結合作為掩孔蝕刻圖形抗蝕劑，還可用于圖形模板的制作等。


　　但是，濕膜厚度（Ｔｈｉｃｋｎｅｓｓ）均勻性不及干膜，涂覆之后的烘干程度也不易掌握好增加了曝光困難．故操作時務必仔細。另外，濕膜中的助劑、溶劑、引發劑等的揮發，對環境造成污染，尤其是對操作者有一定傷害。因此，工作場地必須通風良好。


　　目前，使用的液態光致抗蝕劑，外觀呈粘稠狀，顏色多為藍色（Ｂｌｕｅ）。如：臺灣精化公司產ＧＳＰ１５５０、臺灣緹穎公司產ＡＰＲ－７００等，此類皆屬于單液油墨，可用簡單的網印方式涂覆，用稀堿水顯影，用酸性或弱堿性蝕刻液蝕刻。


　　液態光致抗蝕劑的使用壽命（Ｌｉｆｅｓｐａｎ）：其使用壽命與操作環境和時間有關。一般溫度≤２５℃，相對濕度≤６０％，無塵室黃光下操作，使用壽命為３天，最好２４ｈｒ內使用完。


　　二．液態光致抗蝕劑圖形轉移


　　液態光致抗蝕劑工藝流程：


　　上道工序→前處理→涂覆→預烘→定位→曝光→顯影→干燥→檢查修版→蝕刻或電鍍→去膜→交下工序


　�。保�前處理（Ｐｒｅ－ｃｌｅａｎｉｎｇ）


　　前處理的主要目的是去除銅表面的油脂（Ｇｒｅａｓｅ）、氧化層（Ｏｘｉｄｉｚｅｄ�。蹋幔�ｅｒ）、灰塵（Ｄｕｓｔ）和顆粒（Ｐａｒｔｉｃｌｅ）殘留、水分（Ｍｏｉｓｔｕｒｅ）和化學物質（Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ）特別是堿性物質（Ａｌｋａｌｉｎｅ）保證銅（Ｃｏｐｐｅｒ）表面清潔度和粗糙度，制造均勻合適的銅表面，提高感光膠與銅箔的結合力，濕膜與干膜要求有所不同，它更側重于清潔度。


　　前處理的方法有：機械研磨法、化學前處理法及兩者相結合之方法。


　�。保�機械研磨法


　　磨板條件：浸酸時間：６～８ｓ。Ｈ２ＳＯ４：２．５％。水洗：５ｓ～８ｓ。尼龍刷（Ｎｙｌｏｎ�。拢颍酰螅瑁�：５００～８００目，大部分采用６００目。磨板速度：１．２～１．５ｍ／ｍｉｎ，間隔３～５ｃｍ。水壓：２～３ｋｇ／ｃｍ２。


　　嚴格控制工藝參數，保證板面烘干效果，從而使磨出的板面無雜質、膠跡及氧化現象。磨完板后最好進行防氧化處理。


　�。玻┗瘜W前處理法


　　對于ＭＬＢ內層板（Ｉｎｎｅｒ　Ｌａｙｅｒ�。拢铮幔颍洌�，因基材較薄，不宜采用機械研磨法而常采用化學前處理法。


　　典型的化學前處理工藝：


　　去油→清洗→微蝕→清洗→烘干


　　去油：Ｎａ３ＰＯ４　４０～６０ｇ／ｌ�。危幔玻茫希场。矗啊�６０ｇ／ｌ　ＮａＯＨ�。保啊�２０ｇ／ｌ溫度：４０～６０℃微蝕（Ｍｉ－ｃｒｏｅｔｅｈｉｎｇ）：ＮａＳ２Ｏ８�。保罚啊�２００ｇ／ｌ�。龋玻樱希矗ǎ梗福ィ�２％Ｖ／Ｖ溫度：２０～４０℃