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富林特nyloflex Next曝光技術亮相美國標簽展

2012-09-19 08:54 來源：標簽與貼標 責編：江佳

摘要：
在剛剛結束的Labelexpo Americas 2012展覽會上，富林特柔印產品部門展出了nyloflex Next曝光技術，這種技術采用高照度UVLED，可以生成高精細表面的平頂網點。
　　【CPP114】訊：在剛剛結束的Labelexpo Americas 2012展覽會上，富林特柔印產品部門展出了nyloflex Next曝光技術，這種技術采用高照度UVLED，可以生成高精細表面的平頂網點。
　　
　　富林特柔印產品部門還將展出新的傳統柔印版材和數碼柔印版材nyloflex Ace，以及配套的溶劑型油墨、水性油墨和UV油墨。
　　
　　此外，該公司還將展出rotec標簽套筒，這是專門為窄幅輪轉印刷設計的，其尺寸的穩定性更好。
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