Lithotechnics將在Graph Expo上秀出Metrix2.0版本
2006-08-29 10:41 來源：中華印刷包裝網 責編：中華印刷包裝網
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據悉Lithotechnics公司將在2006年10月15-18日舉辦的美國國際印刷展覽會（Graph Expo 2006）上推出他們的獲獎產品Metrix的最新版本2.0。
2.0版本延續了Metrix所有使用方便的設計和久經考驗的技術，并且第一次加入了動態、自動計算多信號任務的能力，它可以直接由操作者輸入指令或者由管理信息系統的數據操作完成。Metrix2.0版本將在5242號lithotechnics公司的展臺上展示,并且在整個展會過程中還會出現在多家合作伙伴的展示區。
Metrix2.0將規劃工作的自動化推向了廣闊的商業市場，它預示著印刷業的規劃和工作方式的全面變革。Metrix將所有工作動態、自動處理，只要按一個按鈕，就把艱苦的布局設計規劃過程變成印刷生產流程中一個快速簡單的步驟。
Lithotechnics公司的創始人Rohan Holt說：“Metrix不像現在市面上任何一種工作設計系統，我們設計Metrix時有明確的目標，那就是使用方便是極其重要的。其次，我們想促進及時的生產決策，因此我們設計使其更具有動態性、智能性。我們首先處理最困難的工作——機械連接，因為我們知道這項工作將是今后巖石般牢固的基礎�，F在加上預訂工作，Metrix用戶將受惠無窮�！�
使用過Metrix2.0版本的顧客稱其以開創性的方式處理了所有的工作規劃與實施.
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